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  • 曝光机UVE-M500
曝光机UVE-M500

用途:内/外层曝光。 应用领域:五金蚀刻、PCB、FPC、半导体、光电等高端产品全自动曝光。

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 项目类别 : 曝光机

 
项目名称 : 曝光机UVE-M500
 
项目介绍 : 
 
电源:  AC380V  3  50Hz  60A     
 
電源線:16m2 * 4C 
 
曝光均勻度:85%以上
 
有效照射面積:610L×916W(mm) (18”x24”x2片)
 
用途:PCB板干膜湿膜之线路曝光
 
燈管:5KW×2燈
 
點 燈 時 間:3 sec以內
 
穩 定 時 間:約8分鐘
 
燈 管 電 流:1.3A/1.6A
 
水箱容量:36L+5L(熱交換)
 
外接冷卻水水溫:20~30C 
 
冷卻水塔:10噸   冰水機:5噸
 
檯面冷卻: 冷氣強制氣冷
 
檯面切換時間:4~5  Sec
 
吸真空:8~10  Sec
 
真空度要求:-700mmHg以上    
 
外接氣壓源:2~3 kgf/cm2
 
光量積算器:pro-face品牌LCD觸控式顯示型人機介面
 
PLC控制器 :三菱FX2N系列  水壓控制器:SNS-C102
 
壓力調整器: BN-3RT0-8A   冷凍系統:6HP渦卷式壓縮機
 
机台尺寸:2755L×1414W×1693+100H (mm
 
 
 
 POWER:AC380V 3φ 50HZ 11KVA
 
System:Uniformity above 85%
 
Available exposure area :610mm*916mm
 
UV Light:high voltage mercury lamp 5KW *2pcs
 
Machine size:W1340*L2100*H1800
 
Operation:Human machine interface +UV does controller
 
Utiltites:(1).cooling tower :3Ton pipe 3/4"
 
Other:(1).LCD screen monitor within Chinese and English,high frequency take samples control system
 
        (2). Electromagnetic lock exposure frame ,convenience and Precise
 
(3)upper frame/lamp and lower frame/lamp,can set the energe independently
 
      (4)Fault anomaly detector display system in Chinese and English ,it is Conve
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